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功能性電子電鍍:酸性鍍金

發布日期(qī):2019/7/25

 酸性鍍金是隨著功能性鍍金層的需要而發展起來的(de)技術,在(zài)工(gōng)業領域(yù)已經有廣(guǎng)泛的應用,是現代電子和微電子行業必不(bú)可少的鍍種。這主要是(shì)由於酸性鍍金有著較多的技術優勢。比如光亮度、硬度、耐磨性、高結合(hé)力、高密度、高分散能力等。

 
酸性鍍金的pH值一般在335之間,鍍層(céng)的純度在9999%以上。鍍(dù)層的(de)硬度和耐磨性等(děng)都比堿性氰化物鍍層的要高,且可以鍍得較厚的鍍層。
 
典(diǎn)型的酸性鍍金工藝如下: 
 
氰化金鉀
4gL
溫度
60℃
檸檬酸銨
90gL
pH
36
電流密度
lAdm2
陽極
碳或白金
 
改進的酸(suān)性鍍金工藝:
 
氰化金鉀
8gL
硫酸鈷(gǔ)
O05gL
檸檬酸鈉
50gL
溫(wēn)度
32℃
檸檬酸
l2gL
電流密度
lAdm2
  
    用於酸性鍍金的絡合劑除了(le)檸檬酸鹽外,還有(yǒu)酒石酸鹽、EDTA等。調節pH值則可以采用硫酸氫鈉(nà)等(děng)。也(yě)有添加導電鹽以改善鍍層性能,比如磷酸氫鉀、磷酸氫銨、焦磷酸(suān)鈉等。選擇(zé)好適當的絡合劑和導電鹽,可以獲得較好的效果。
 
金鹽(yán)的濃度可以(yǐ)在110gL的範圍變化。電流密度的範圍(wéi)則在0120Adm2。在溫度為6065℃的條件,進行強力攪(jiǎo)拌,可以獲得光亮的鍍金層。
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