鍍液是由什麽組成的

 鍍液組成
目前研（yán）究（jiū）和使用的三價鉻電鍍液（yè）主（zhǔ）要成分如下：
(1)主鹽：當前三價鉻鍍鉻體係主要有氯（lǜ）化物體係，硫酸鹽體係和（hé）硫酸鹽（yán）-氯化物混（hún）合體係。
氯化物鍍液導（dǎo）電好，電壓低，鍍液分散能力、覆（fù）蓋能力和電（diàn）流效率較高，但陽極會（huì）析出有毒的CL2，且對設備腐蝕（shí）較重;硫酸鉻電鍍時陽極析出無毒的氧氣，無汙染，但鍍液導電性（xìng）不如（rú）氯化物，鍍（dù）液分散能力、覆蓋能力和電流效率較低。
(2)絡（luò）合劑（jì）：通（tōng）常為（wéi）羥基羧酸及其鹽，如甲酸和乙酸鹽、氨基乙酸、草酸及其（qí）鹽，檸檬酸及（jí）其鹽，硫氰算眼和酒石酸鹽等。
(3)導電鹽：減少電能的（de）消耗。多為鈉、鉀、銨的氯化物和硫酸鹽。
(4)緩衝劑：維（wéi）持鍍液PH值穩定。多為（wéi）硼酸、醋酸鹽（yán）、鋁鹽以及檸檬酸鹽等。
(5)穩定劑：複合型（xíng）還原劑，抑製和降低六價鉻的產生。多為甲醇、亞（yà）硫酸鈉、鹵化物等。

工藝條件
(1)溫度：最（zuì）好在室溫下進行，工作溫（wēn）度一般控製在15～55℃。溫度升高會降低濃差極化，並使CR3+的析出點（diǎn）位正移，同時析氫嚴重，不利於鉻（gè）的沉積。
(2)PH值為1～4。PH值低時析氫嚴重，陰（yīn）極電流效率降低，PH值高時易發生羥（qiǎng）橋化反應，鍍層（céng）發暗。
(3)電流密度為3～100A/DM2。陰極電流密度範圍較寬，但較低時會影響鉻沉積速度，陰極電（diàn）流密度過高會影響到鍍層（céng）性能。
(4)電流效（xiào）率為10%～25%。可以進行輕微攪拌。
另外，三（sān）價鉻鍍鉻有單槽方式和雙槽方式，單槽方式中的陽（yáng）極（jí）材料是（shì）石（shí）墨棒，與其他普通（tōng）電鍍一樣;雙槽方式（shì）使用了（le）陽極內槽，可以使（shǐ）用鉛錫合金（jīn）陽極罩（zhào），另外作為（wéi）陽極基礎液（yè）使用了稀（xī）硫酸。

三價鉻鍍鉻優點
三價鉻電鍍具有下列優點：
(1)毒性低，汙染小。鍍（dù）液清洗（xǐ）水中不含六價鉻，廢水稍加處（chù）理即可（kě）排放，且電鍍過程不產生（shēng）有毒的鉻酸霧;
(2)鍍液濃度低,隻有六價（jià）鉻鍍鉻的1/10，分散（sàn）能力和覆蓋（gài）能力好，成（chéng）品率提高;
(3)電鍍過程不受（shòu）電流中斷的影響，無需退（tuì）鍍;
(4)陰極電流效率可達（dá）21～25%，高於六（liù）價鉻電鍍，提（tí）高了生產率。

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