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鋅鎳合金鍍層陰暗原因分析(xī)鍍層陰暗

發布日期:2019/11/19

 鍍層陰暗(àn)多數出現在低電流密度區,偶爾也有出(chū)現在中電流密度區或高(gāo)電流密度區。
低電流密度區鍍層陰暗(àn)可能是鍍液溫度(dù)太(tài)高,電流密度太小,主鹽濃度太(tài)低;
次級光亮劑過多或鍍液中有銅、鋅雜質引起的;中電流密度區鍍層陰(yīn)暗可能是由次級(jí)光亮劑太少,有機雜質過多(duō)或有一定量的鐵雜質造成的;
高電流密度區鍍層陰暗可能是鍍液pH太高,初級光亮劑太少或鍍液中有少量的鉻酸鹽、磷酸(suān)鹽及鉛雜質引(yǐn)起的。
此外(wài),鍍前處理不良,鍍件表麵有堿膜或有機物吸附膜,或者底(dǐ)鍍層不好也會導致(zhì)鎳層出現陰暗的(de)現象。
分析這類故障,可以取鍍鎳液先做赫爾槽試驗,假使多次試驗,赫爾槽的陰(yīn)極樣板上鍍層狀況良好,沒有出現陰暗的現象(xiàng),
那麽電(diàn)鍍時(shí)出(chū)現的故障,可能(néng)是鍍(dù)前處理不良或底鍍層不好造成的,應該認真檢查電鍍前(qián)的情(qíng)況。
若赫爾(ěr)槽試(shì)驗所得的陰極樣板上出現低電流密度區(qū)鍍層(céng)陰暗,則可以根據前麵提到的可能原因進行分析。
中、高(gāo)電流密度區(qū)鍍層陰暗(àn),也可用類似(sì)的方(fāng)法進行試(shì)驗,這裏不再贅述。

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