必知：不同（tóng）基體電子元件的鍍金方法

 1.銅、黃銅鍍金

以（yǐ）銅、黃銅為基體的電子（zǐ）元件鍍金是比其他（tā）金屬基體簡（jiǎn）單。鍍金所（suǒ）需的鍍金液中（zhōng）含中等濃度金，隻有金的濃度合適才能得（dé）到導電好（hǎo）外觀美麗（lì）的鍍層。

具體步驟如下：首（shǒu）先使用汽油或者四氯化碳（tàn）等有機溶劑吸（xī）去電子元件上的油性（xìng）汙漬，如果單純衝洗或（huò）浸泡去油漬（zì）效果不好;其次完成後利用超聲波化（huà）學除油，再進（jìn）行熱水、冷水、酸洗(硫酸（suān）、硝酸、水的混合液)、浸泡碳酸（suān）鈉水（shuǐ）溶（róng）液。

鍍金所用的鍍金液一（yī）般成分是氰化金鉀、碳酸鉀等，鍍金完成後需要在 70 ～ 80℃的純淨水中超聲波攪動（dòng）清洗(純淨水的電導率應≤ 10us/cm)，清洗時間不少於 10 分鍾，最後（hòu）幹（gàn）燥 。

2 .磷青銅鍍金

生（shēng）活中所用的插線（xiàn）板上（shàng）的插頭、插座一般都是磷青銅元（yuán）件，之前這種基（jī）體金屬進行鍍金需要預鍍銅、再鍍金，比銅、黃銅基體的電子元件鍍（dù）金工序複（fù）雜，鍍金層質量也不易得到保（bǎo）證。

經過多年研究試驗，其鍍金工序簡單且金鍍層（céng）質量可靠很多，先用汽油除去電子元件上的油漬汙漬，再超聲波（bō）化學除油（yóu），然後進（jìn）行（háng）熱水、冷水、鹽酸酸洗，再用含氰化金鉀、碳（tàn）酸鉀的鍍金液進行鍍金（jīn）。

3 .矽錳青銅鍍金

以矽（guī）錳青銅（tóng）為（wéi）基（jī）體（tǐ）金屬的電子元件進行鍍金，所需工序（xù）跟上述金屬基體無太大差別，隻是浸（jìn）泡溶液為氫氟酸，氫氟（fú）酸（suān）可以去除酸洗後產生的矽化合（hé）物，這種矽化合物是黑色的，附著在（zài）元件表麵，影響電鍍金的（de）鍍層結合力。

4 .鎳及（jí）鎳合金（jīn）鍍金（jīn）

一些微小的電子元件如電子管等一般是鎳（niè）及鎳合金，如果想要得到優異的（de）導電性能就需要（yào）進行鍍金。鍍金（jīn）工序比較簡單，基本同銅、黃銅金屬基體的電子元件。鎳及鎳合金鍍金電（diàn）鍍前使用鹽酸酸洗獲得的金鍍層結（jié）合力較好。

2 電鍍金和化學鍍金

1 .電鍍金

雷達上的金鍍層、各種引線鍵合的鍵合麵等都是電鍍（dù）金的應用。電（diàn）鍍金的鍍金陽極一般是鉑金鈦網，陰極是矽片，當陽極、陰極連上電源，氰化金鉀鍍液就會產生電流進（jìn）而形成電（diàn）場，陽極釋放電（diàn）子，陰極接收電子，陰極附近的絡合態金離子和電子結合以金原子的（de）形式沉（chén）積在陰極表麵，逐漸在矽片表麵形成一層均勻、致密的金，這就是電鍍金的原理。

電（diàn）鍍金使用的（de）電鍍液一般有氰化物（wù）和非氰化（huà）物兩種，但是氰化物有劇毒（dú），使用不方（fāng）麵且不易不管理（lǐ），所以現在多使（shǐ）用微氰化物體係，毒性小且耐磨。電鍍金的設備（bèi）包括水平噴流（liú）式杯鍍和垂直掛鍍兩種。

杯（bēi）鍍式的電（diàn）鍍（dù）比掛（guà）鍍式的電鍍容易產生（shēng）氣泡，氣泡會影響鍍（dù）層的均勻性。電鍍工藝對鍍層的均勻度、粗糙度、硬度等都會產生重要的影響。電鍍工藝（yì）中比較重要的參數（shù）有電流密度、溫度、pH、金質量濃度、電鍍時間等。電（diàn）流密度增（zēng）加，金沉積速度加快，鍍層較為粗（cū）糙;鍍（dù）液（yè）溫度高於 80℃會導致鍍層硬度減弱（ruò）;pH 高於 7 會導致鍍（dù）層粗糙;金濃度也會影響金的沉積速度。隻要控（kòng）製好（hǎo）電鍍金的各種參數就可以獲得性能優良的鍍層，滿足電子元件製造業的（de）需求 。

2. 化學鍍金

化學鍍金可以（yǐ）分為置換型、還原型，這是依據鍍金液（yè）中是否（fǒu）含有還原劑來分型的。置（zhì）換鍍金（jīn）的原理是（shì）利用金和基體金屬的電位差，電位（wèi）差的（de）產生就會使金由鍍液沉積到基體表麵，基體也會溶解，基體表麵金（jīn）屬全部溶解則反映停止。

還原型鍍金的原理目前並沒有很（hěn）明確，有些學者認（rèn）為是還原型（xíng）鍍金同時存在置換型（xíng）鍍金，有些學者（zhě）認為發生還原型鍍金需要有具有催化（huà）能力的基體金屬。

化學鍍金的鍍金液由金鹽、配位劑、還原（yuán）劑（jì）、穩定劑組成，有的可能還有表麵改善劑、表麵活性劑。化學鍍金的鍍液也主（zhǔ）要是以亞硫（liú）酸鹽、檸檬（méng）酸鹽等體係的無氰鍍（dù）液，無氰工藝的發展也越來越成熟。

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