必知：不同基體電子元（yuán）件的鍍（dù）金方法

1.銅、黃銅鍍金

以（yǐ）銅、黃銅為基（jī）體的電子元件鍍金是比其他金屬基體簡單。鍍金所需的鍍金液中含中等濃（nóng）度（dù）金，隻有金的濃度合適才能（néng）得到導電好外觀美（měi）麗（lì）的鍍層。

具體步驟如下：首先使用汽油或（huò）者四氯化碳等有機（jī）溶劑吸去電子元件（jiàn）上的油性汙漬，如果單純（chún）衝洗或浸泡去油漬效果（guǒ）不好;其次完成後利用超聲波化學除油，再進行熱水、冷水、酸洗(硫酸、硝酸、水的混合（hé）液)、浸泡碳酸鈉水溶液（yè）。

鍍（dù）金所用的鍍金液一般成分是氰化（huà）金鉀、碳酸鉀等，鍍（dù）金完成後需要在 70 ～ 80℃的純淨水中超聲波攪動清洗(純淨水的電導率應≤ 10us/cm)，清洗時間（jiān）不少於 10 分鍾，最後幹燥 。

2 .磷青銅鍍金

生（shēng）活中所（suǒ）用的插線（xiàn）板上的插頭、插座（zuò）一般都是磷青銅元件，之前這種基體金屬進行鍍金需要預（yù）鍍銅、再鍍金，比銅、黃銅基體的電子元件（jiàn）鍍金工序（xù）複雜，鍍（dù）金層質量也（yě）不易得到保證。

經過多年研究試驗（yàn），其鍍金工序簡單且金鍍層質（zhì）量可靠很多，先用汽油（yóu）除（chú）去電子元件上的油（yóu）漬汙漬（zì），再超聲波化學除油，然後進行熱水（shuǐ）、冷水（shuǐ）、鹽酸酸洗，再用含氰化金鉀、碳（tàn）酸鉀的鍍金液進行鍍金（jīn）。

3 .矽錳青銅鍍金

以矽錳青銅為基體金屬（shǔ）的電子元件（jiàn）進行鍍金，所需工序跟上述金（jīn）屬（shǔ）基體無太（tài）大差別（bié），隻是浸泡（pào）溶液為氫氟酸，氫氟酸可以去除酸洗（xǐ）後產（chǎn）生的矽化合物（wù），這種矽化合物是黑色的，附（fù）著在元件（jiàn）表麵，影響電（diàn）鍍金的鍍層結（jié）合力。

4 .鎳及鎳合金鍍金

一些微（wēi）小的（de）電子元件如電子管等一般是鎳及鎳合金，如果想要得到優（yōu）異的導電性能就（jiù）需（xū）要進行鍍金。鍍金（jīn）工序比（bǐ）較簡單，基本（běn）同銅（tóng）、黃銅金屬（shǔ）基體的電子元件。鎳（niè）及鎳合金鍍金電鍍前使用鹽酸酸洗獲得的金鍍層結合力（lì）較好。

2 電鍍金和化學鍍金

1 .電鍍（dù）金

雷達上的（de）金鍍層、各種引線（xiàn）鍵合的鍵合（hé）麵等都是電鍍金的應（yīng）用。電（diàn）鍍金的鍍金陽極（jí）一般是鉑金鈦網，陰極是矽（guī）片，當陽極、陰極連上電源，氰化金鉀鍍液就會產生電流進而形成電場，陽極釋放（fàng）電（diàn）子，陰極接收電子（zǐ），陰極附近的絡合（hé）態金離子和電子結合以金原子的形式沉積在陰極表麵，逐漸在矽片表麵形（xíng）成一層均勻、致密的金，這就是電鍍金的原理。

電（diàn）鍍金使用的（de）電鍍液一般（bān）有氰化物和（hé）非氰（qíng）化物兩種，但是氰化物有劇毒，使用不方麵（miàn）且不易不管（guǎn）理，所以現在多使用微氰化物體係，毒性小且耐磨。電鍍金（jīn）的（de）設備包括水平噴流（liú）式杯鍍和垂直掛鍍兩種。

杯鍍式的電鍍比掛鍍式的電鍍容易產生氣泡，氣（qì）泡會影響鍍層的均勻性。電鍍工藝對鍍層的均勻度、粗糙度、硬度等都會產生重要的影響（xiǎng）。電鍍工（gōng）藝中比較重要的參數有電流密度、溫度、pH、金質量濃度、電鍍時間等。電流（liú）密度增加（jiā），金沉積（jī）速度加快，鍍層（céng）較為粗糙;鍍液溫度高於 80℃會導（dǎo）致鍍層硬度減弱;pH 高於（yú） 7 會導致鍍層粗糙;金濃度也（yě）會影響金的沉（chén）積速度。隻要控製（zhì）好電鍍金的各種參數就可以獲得性（xìng）能（néng）優良（liáng）的鍍層，滿足電子元件製造業的需求 。

2. 化學鍍金

化學鍍金可以分為置換型、還原型（xíng），這是依據鍍金液中是否含有還原（yuán）劑來分型的（de）。置換鍍金（jīn）的原理是利用金和基體金屬的電位差，電位差的產生就會使（shǐ）金由鍍液沉（chén）積到基體表麵，基體也會溶解，基體表麵金屬全部溶解則反（fǎn）映停止（zhǐ）。

還原型鍍金的原理目前並沒有很明確，有些學者認為是（shì）還原型鍍金同時存在置換型鍍金（jīn），有（yǒu）些學者認為發生還原型鍍金需要有具有催（cuī）化能力的基體金屬。

化學鍍金的鍍金液由金鹽、配位劑、還（hái）原劑、穩定劑組成，有的可能還有表麵改善劑、表（biǎo）麵活性劑。化學鍍（dù）金的鍍液也主要是以亞硫酸鹽、檸檬酸鹽等體係的無氰鍍液，無氰工藝的發展也越來越成熟（shú）。

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