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電鍍廠--電鍍(dù)流程及電鍍(dù)條件
一.電鍍流程(chéng):
一般銅合(hé)金底材(cái)如下(xià)(未含水洗工程)。
1.脫脂:通常同時使用堿性預備脫脂及電(diàn)解(jiě)脫脂。
2.活化:使用稀硫酸或相關之混合酸。
3.鍍(dù)鎳:有(yǒu)使用硫酸鎳係及氨基磺(huáng)酸鎳係。
4.鍍(dù)鈀鎳:目前皆(jiē)為氨(ān)係。
5.鍍金:有金鈷、金鎳、金鐵,一般(bān)使用金鈷係最多。
6.鍍鉛錫:目前為烷基磺酸係。
7.幹燥:使(shǐ)用熱風循環烘幹。
8.封孔(kǒng)處理:有(yǒu)使用水溶性及溶劑型兩種。
二.電(diàn)鍍條件:
1.電(diàn)流(liú)密度:單位電鍍麵積下所承受之電流。通常電(diàn)流密度越高膜厚越厚,但(dàn)是過+T8高時鍍層會燒焦(jiāo)粗糙。
2.電鍍位置(zhì):鍍件(jiàn)在藥水中位置或與陽極相對應位置,會影響膜厚分布。
3.攪拌狀況:攪拌(bàn)效果越好,電鍍效率越好。有空氣、水流(liú)、陰極等攪拌方式。
4.電流波形:通常(cháng)濾波度越好,鍍層組織越均一。
5.鍍液溫度:鍍金約(yuē)50~60℃,鍍鎳約50~60℃,鍍錫鉛約17~23℃,鍍鈀鎳約45~55℃。
6.鍍液pH值:鍍金約4.0~4.8,鍍(dù)鎳約3.8~4.4,鍍鈀鎳約8.0~8.5。
7.鍍液比重:基本上比重低,藥水導電差(chà),電鍍效率差。
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